a
b
c
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND PROCESSPROCESS FOR DEPOSITING OPTICAL THIN FILMS ON BOTHPLANAR AND NON-PLANAR SUBSTRATESContinuation-in-part ApplicationSiOX
metal mode
Meta Mode
Twin MAG
a
b
c
2 1
a
b
c
SiO2
Ta O2 5
a
b
c
d
c
c
c
a
b
c
SiO2
Ta O2 5
a
b
c
d
c
c
c
a
b
d
OPERATION OF BROAD-BEAM SOURCESCommonwealth Scientific CorporationSiO2
SiO Ar Ox 2
A
B
C
D
E
C A B
A
B C
SiO2
SiO
SiO2
Al, Ti, Sn, Cr, Ta, Fe, Si, Te, Ni-Cr, In-SnAl 0 , TiO , Ta O , SiO2 3 2 2 5 2Fe 0 TiN, CrN2 3eV
eV
Ti TiO2
a
b
c
d
a
b
a
b
c
CMAG 2
2 2 5 SiO Ta Oa
b
a
SiO2
Ta O2 5
3 a
d
3 b c
a
c
d
SiO2
Ta O2 5
7 a
d
7 b c
出典：裁判所ウェブサイト「裁判例検索」（https://www.courts.go.jp/hanrei/33994/detail7/index.html）。本文は同サイト掲載の判決書PDFからTaiLexi AIがテキスト化・整形したもの（正確な文言は原本PDFを参照）。判示事項・裁判要旨・参照法条は裁判所の公表どおり。