平成２２年６月２３日判決言渡
同日原本領収
裁判所書記官
平成１８年（ワ）第２３５５０号
職務発明譲渡対価等請求事件
口頭弁論終結日
平成２２年３月１７日
判決
静岡県菊川市＜以下略＞
原告
Ｐ１
同訴訟代理人弁護士
升永英俊同江口雄一郎同柳沢知樹
東京都千代田区＜以下略＞
被告
株式会社日立製作所
同訴訟代理人弁護士
城山康文同岩瀬吉和同山本健策同池田孝宏主文
被告は，原告に対し，６３０２万６１３６円及び別紙認容金額内訳表の金額欄記載の各金額に対する同認容金額内訳表の起算日欄記載の各日からそれぞれ支払済みまで年５分の割合による金員を支払え。
原告のその余の請求をいずれも棄却する。
訴訟費用は，これを１０分し，その９を原告の負担とし，その余を被告の負担とする。
この判決は，第１項に限り，仮に執行することができる。
事実及び理由
第１
請求
被告は，原告に対し，６億円及び別紙請求金額内訳表の金額欄記載の各内金額（ただし，同請求金額内訳表の起算日欄記載の日の早いものから順次６億円に満つるまで。）に対する同請求金額内訳表の起算日欄記載の各日からそれぞれ支払済みまで年５分の割合による金員を支払え。
仮執行宣言
第２
事案の概要
本件は，被告の従業員であった原告が，被告に在職中に行った発明に係る日本国特許６件，アメリカ合衆国（以下「米国」という。）特許１７件及び大韓民国（以下「韓国」という。）特許５件についての特許を受ける権利を被告に承継させたことによる相当の対価として，平成１６年法律第７９号附則２条１項，同法による改正前の特許法３５条３項及び４項に基づき，１５億８７９９万５４７３円の一部である６億円及び別紙請求金額内訳表の金額欄記載の各内金額（ただし，同請求金額内訳表の起算日欄記載の日の早いものから順次６億円に満つるまで。）に対する同請求金額内訳表の起算日欄記載の各日からそれぞれ支払済みまで民法所定の年５分の割合による遅延損害金の支払を求める事案である。
争いのない事実等（争いのない事実以外は証拠等を末尾に記載する。）(1)
当事者等
ア
原告は，昭和５２年４月に被告に入社し，平成１４年６月に被告を退職した。
イ
被告は，半導体，家電，重電を含む総合電機メーカーである。
ウ
株式会社ルネサステクノロジ（以下「ルネサス」という。）は，被告と三菱電機株式会社（以下「三菱電機」という。）が，それぞれの半導体事業部門につき，共同して新設分割をすることにより，平成１５年４月１日に設立された株式会社である（弁論の全趣旨）。
⑵
特許を受ける権利の譲渡
原告は，被告に在籍中，被告の業務範囲に属し，かつ，原告の職務に属する，後記(3)の各特許に係る発明（以下，これを「本件発明」と総称する。）を行い，被告に対し，本件発明に関するすべての権利を譲渡した。(3)
本件各特許等
ア
被告は，本件発明につき，日本，米国及び韓国において，別紙特許目録記載の各特許の出願又は分割出願をし，それぞれ特許を受けた（特許番号及び登録日を除き，甲２ないし４（各枝番を含む。）。以下，同特許目録記載の各特許，各特許に係る特許権及び各特許に係る発明を，それぞれ特許された国及び登録番号の末尾３桁により特定し（例えば，「日本９６７号特許」，「日本９６７号特許権」及び「日本９６７号発明」といい，同様に「米国４１７号特許」，「韓国７９６号特許」等という。），これらの各特許，各特許権及び各特許に係る発明を総称して，それぞれ「本件各特許」，「本件各特許権」及び「本件各特許発明」と，日本国特許を総称して「日本各特許」と，米国特許を総称して「米国各特許」と，韓国特許を総称して「韓国各特許」という。）。
イ
日本７４８号特許，同７４９号特許，同４７７号特許，同０５２号特許及び同４６８号特許は，いずれも，日本９６７号特許の出願（特願昭６３－２９５３５０）から分割出願されたものである。
ウ
米国各特許及び韓国各特許は，いずれも日本９６７号特許の出願（特願昭６３－２９５３５０）につき優先権を主張するものである。
エ
米国４１７号特許は，再発行特許ＲＥ３５３１５の登録により，放棄されたものとみなされた。当該再発行特許の期間満了日は，２００９年１１月１６日である。（以上，弁論の全趣旨）
オ
本件各特許権を含む被告の半導体部門が管理する特許権等（一部を除く。）に関する一切の権利義務は，前記(1)ウの新設分割により，被告からルネサスに承継された。しかしながら，被告の従業員であった発明者であって，前記(1)ウの分割期日（平成１５年４月１日）より前に退職した者等に対する特許を受ける権利の譲渡対価支払債務は，ルネサスと被告との間の合意により，被告がこれを負担すること，ルネサスは，被告に対し，ルネサスが発明者に対する支払として十分であると認める金額を補償することとされた。これにより，本件発明についての特許を受ける権利の譲渡対価支払債務は，ルネサス設立後においても，被告が負担することとなった。（以上，弁論の全趣旨）
(4)
実績報奨金の支払
被告は，原告に対し，日本９６７号特許の実績報奨金として，次のとおり，支払った。なお，年度とは，４月１日から翌年３月３１日までをいう（以下同じ。）
支払年
実績年度（４月１日～３月31日）
実績報奨金の額
平成１４（２００２）年
平成１２（２０００）年
１６０万円
平成１５（２００３）年
平成１３（２００１）年
４００万円
平成１６（２００４）年
平成１４（２００２）年
４２０万円
平成１７（２００５）年
平成１５（２００３）年
５００万円
平成１８（２００６）年
平成１６（２００４）年
７４３万０９３２円
合計
２２２３万０９３２円
(5)
日本各特許発明に係る特許を受ける権利の譲渡は，いずれも平成１６年法律第７９号の施行（平成１７年４月１日）前にされたものであるから，当該譲渡に係る対価については，同法附則２条１項により，同法による改正前の特許法（以下「旧特許法」という。）３５条３項及び４項が適用される。また，米国各特許発明及び韓国各特許発明に係る特許を受ける権利の譲渡に係る対価についても，旧特許法３５条３項及び４項が類推適用されると解される（最高裁平成１６年(受)第７８１号同１８年１０月１７日第三小法廷判決・民集６０巻８号２８５３頁）。
なお，旧特許法３５条３項及び４項の規定は，次のとおりである。第３５条
（略）
（略）
従業者等は，契約，勤務規則その他の定により，職務発明について使用者等に特許を受ける権利若しくは特許権を承継させ，又は使用者等のため専用実施権を設定したときは，相当の対価の支払を受ける権利を有する。前項の対価の額は，その発明により使用者等が受けるべき利益の額及びその発明がされるについて使用者等が貢献した程度を考慮して定めなければならない。
争点
(1)
本件発明により被告が受けるべき利益の額
ア
本件各特許発明の技術的範囲
イ
被告が包括クロスライセンス契約において本件各特許により得た利益の額
⑵
本件発明がされるについて被告が貢献した程度
(3)
本件発明の相当の対価の額
(4)
消滅時効の成否
第３
争点についての当事者の主張
争点(1)ア（本件各特許発明の技術的範囲）について
（原告の主張）
(1)
原告の主張の骨子
本件各特許は，ハーフトーン型位相シフトマスクを用いた半導体集積回路の製造方法を含み，光の波長を下回るパターンのウエハ上での形成を可能とする半導体集積回路の製造方法の基本特許である。
⑵
日本９６７号特許の明細書の記載等
ア
日本９６７号特許の請求項１の構成要件の分説
日本９６７号特許の請求項１は，次のとおり，構成要件に分説される（以下，各構成要件を，それぞれ「構成要件Ａ」等という。）。Ａ：マスク基板の一主面上に形成された回路パターンを，集積回路が形成されるべき半導体ウエハ上のフォトレジスト膜に縮小投影露光装置により露光する集積回路装置の製造方法であって，
Ｂ：（ａ）第１光透過領域及びその第１光透過領域と境界を接する第２光透過領域よりなる回路パターンを有する上記マスク基板を上記縮小投影露光装置の所定の部位に配置する工程，
Ｃ：（ｂ）上記フォトレジスト膜が形成された上記半導体ウエハを上記縮小投影露光装置の所定の部位に配置する工程，
Ｄ：（ｃ）上記所定の部位に配置した上記マスク基板に所定の波長を有する露光光を照射し上記第１光透過領域及び上記第２光透過領域のいずれか一方に設置された位相シフト手段により上記露光光の内，上記第１光透過領域と上記第２光透過領域を透過した光の位相が相互に反転するようにして透過させる工程，
Ｅ：（ｄ）上記マスク基板を透過した上記露光光を上記縮小投影露光装置により集光し，上記マスク基板上の回路パターンの実像を上記第１光透過領域の上記第２光透過領域側において上記実像の端部が鮮明になるように上記所定の部位に配置した上記半導体ウエハ上のフォトレジスト膜に投影し，露光する工程よりなること
Ｆ：を特徴とする集積回路装置の製造方法。
イ
ポリメチルメタアクリレートを用いた透明膜について
(ア)
日本９６７号特許の明細書（以下「日本９６７号明細書」とい
う。）には，「（日本９６７号発明の位相シフト手段の透明膜は，）ポリメチルメタクリレートなどでも良い」と記載されている（２０欄３５行～３８行）。そして，ポリメチルメタアクリレートは，有機高分子膜であり，露光光の波長によって，透過率が著しく変わるものであって，現在，縮小投影露光装置として広く実用化されている（すなわち，日本９６７号発明がなされた当時，当業界の専門家の間で検討されていた。）ＡｒＦエキシマレーザ露光装置（波長１９３ｎｍ）についていえば，ポリメチルメタアクリレートを用いた透明膜は，光透過率が１％程度になる。これは，ハーフトーン型位相シフト膜の通常の光透過率（５～６％）を下回る。
また，金属膜や完全遮光する遮光領域は，日本９６７号特許の請求項１の構成要件ではない。
したがって，日本９６７号特許の請求項１は，ハーフトーン型位相シフトマスクを用いた縮小投影露光法の集積回路製造方法を含むと解される。
(イ)
被告は，ポリメチルメタアクリレートは，透明膜の一例として挙げられていることをもって，これをハーフトーン型位相シフト膜として利用することは開示されていないと主張する。
これは，透過領域は透明膜を用いたものでなければならず，そこにおける透明膜は，光透過率がほぼ１００％のものに限られることを前提とするものと解される。
しかしながら，そもそも，日本９６７号特許の請求項１は，「第１光透過領域」と「第２光透過領域」のいずれについても，その光透過率について何らの制限も加えていないから，その光透過率が何％であっても，位相が反転した光が干渉しあい，端部が鮮明になるという効果を奏するものであれば，日本９６７号発明の技術的範囲に含まれると合理的に考えられる。
また，透明膜という文言は，日本９６７号特許の請求項１では用いられておらず，実施例の中の説明文，図面の中で用いられているにすぎない。
したがって，被告の前記主張は，第１に，そもそも透明膜はほぼ１００％の光透過率である必要はないという点において，また，第２に，仮に，透明膜とはほぼ１００％の光透過率を有するものを意味するとしても，そもそも日本９６７号特許の請求項１においては，透明膜とは一切記載されていない点で，誤っている。
(ウ)
また，被告は，「新規ＡｒＦレジスト用光酸発生剤の設計とその性能」と題する論文（乙２５。以下「乙２５論文」という。）を根拠に，波長１９３ｎｍの光を用いたとしても，ポリメチルメタアクリレートの光透過率は，１００％に近いと主張する。
しかしながら，乙２５論文は，平成１３（２００１）年発表の論文であるところ，ポリメチルメタアクリレートの光透過率を向上させることは，かなり以前から研究されてきており，その光透過率は１０年程度の間に飛躍的に向上してきた。したがって，乙２５論文は，この成果を反映させたものであって，日本９６７号特許の出願時における当業者の認識とは異なる。
他方で，１９８８年１２月６日に出願された米国特許５００８１５６号（甲６０。以下「甲６０公報」という。）のＦｉｇ．４によれば，ポリメチルメタアクリレート（膜厚０．８５μｍ（８５０ｎｍ））の光透過率は，波長が２５０ｎｍから２２０ｎｍにかけて，１０％程度まで急激に低下しており，これを見た当業者は，１９３ｎｍの波長において，光透過度が１００％近くになるとは考えない。また，「有機物の紫外線吸収と分解」（“Ultraviolet laser ablation and decomposition oforganic materials”）と題する論文（甲６４。以下「甲６４論文」という。）も，波長１９３～２２０ｎｍにかけて，ポリメチルメタアクリレートの紫外線の吸収が格段に低下（光透過率が格段に増加）するものではないことを示している。
（長文のため、ここでは本文の冒頭のみを掲載しています。全文はこのページの表示後に読み込まれます。原本は原本PDFをご覧ください。）
出典：裁判所ウェブサイト「裁判例検索」（https://www.courts.go.jp/hanrei/80475/detail7/index.html）。本文は同サイト掲載の判決書PDFからTaiLexi AIがテキスト化・整形したもの（正確な文言は原本PDFを参照）。判示事項・裁判要旨・参照法条は裁判所の公表どおり。