審判番号 不服2023-007891
請求人 日東電工株式会社（代理人 弁理士1名）
特願２０１８－２００７５６「反射防止フィルム」拒絶査定不服審判事件〔令和２年４月３０日出願公開、特開２０２０－６７５８２〕について、次のとおり審決する。
結 論
本件審判の請求は、成り立たない。
理 由
第１ 手続の経緯
特願２０１８－２００７５６号（以下「本件出願」という。）は、平成３０年１０月２５日の出願であって、その手続等の経緯の概要は、以下のとおりである。
令和４年１０月１２日付け：拒絶理由通知書
令和４年１２月１４日提出：意見書
令和４年１２月１４日提出：手続補正書
令和５年２月１３日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。）
令和５年５月１５日提出：審判請求書
第２ 原査定の概要
原査定の拒絶の理由は、概略、本件出願の請求項１～５に係る発明は、本件出願前に日本国内又は外国において下記の電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、本件出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない、という理由を含むものである。
記
引用文献１：特開２０１７－１２５８７６号公報
引用文献２：特開２０１８－４８０６１号公報
引用文献３：特開２０１７－２２７８９８号公報
（当合議体注：以下、特開２０１７－１２５８７６号公報を「引用文献１」、特開２０１８－４８０６１号公報を「引用文献２」、特開２０１７－２２７８９８号公報を「引用文献３」という。引用文献３は、主引用例であり、引用文献１及び引用文献２は、技術常識を示す文献である。）
第３ 本願発明
本件出願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、令和４年１２月１４日に提出された手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項によって特定されるとおりの次のものである。
「 透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層と、防汚層とをこの順に有し、
第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が２８ｎｍ～３３ｎｍであり、
第１のＳｉＯ２層の光学膜厚が、４３ｎｍ～５７ｎｍであり、
第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が、２６４ｎｍ～２８８ｎｍであり、
第２のＳｉＯ２光学膜厚が、１１３ｎｍ～１２９ｎｍであり、
防汚層の屈折率が、１．００～１．５０であり、
防汚層の厚さが、３ｎｍ～１５ｎｍである、
反射防止フィルム。」
第４ 引用文献及び引用発明
１ 引用文献３の記載事項
原査定の拒絶の理由で引用された引用文献３には、以下の事項が記載されている。なお、下線は、当合議体が引用発明の認定及び判断等で活用した箇所を示すものである。
（１）「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明フィルム上に複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルム、およびその製造方法に関する。
・・・省略・・・
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般に、車載用の画像表示装置に用いられる偏光板は、屋外での使用を想定したモバイル機器に用いられる偏光板に比して、より高温（例えば、９０℃以上）での特性変化が小さいこと（高温耐久性）が求められる。特許文献１等の反射防止フィルムを用いた場合、外部からの水分の浸入等が抑制されるため、偏光板の耐湿性が向上する。一方、特許文献１の反射防止フィルムを備える偏光板は、高温環境に長時間曝されると偏光板にムラが発生しやすく、車載用途で要求される高温での信頼性を満たしていないことが判明した。
【０００７】
上記に鑑み、本発明は偏光子と貼り合わせた場合に、高温での耐久性に優れる反射防止フィルムの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の反射防止フィルムは、透明フィルム基材の一方の主面に、屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層を備え、透湿度が１５～１０００ｇ／ｍ²・２４ｈである。反射防止層表面の押込弾性率は２０～１００ＧＰａであり、算術平均粗さＲａは３ｎｍ以下であり、１．５ｎｍ以下が好ましい。
【０００９】
透明フィルム基材は、反射防止層の形成面側にハードコート層を備えることが好ましい。ハードコート層はアクリルウレタン系樹脂を含むものが好ましい。ハードコート層は樹脂マトリクス中に微粒子が分散している防眩性ハードコート層でもよい。反射防止層の表面には防汚層が設けられていてもよい。
【００１０】
反射防止層は、高屈折率層と低屈折率層との交互積層体であることが好ましい。高屈折率層としては酸化ニオブ薄膜が好ましく、低屈折率層としては酸化シリコン薄膜が好ましい。
・・・省略・・・
【発明の効果】
【００１３】
本発明の反射防止フィルムは、反射防止層の透湿度が高いため、反射防止層付き偏光板を作製した場合に、高温での耐久性に優れる。また、反射防止層の機械的強度が高く、かつ表面が平滑であるため、耐擦傷性および指紋拭き取り性にも優れる。」
（２）「【発明を実施するための形態】
【００１５】
［反射防止フィルムの構成］
図１は、一実施形態にかかる反射防止フィルムの構成を模式的に示す断面図である。図２は、反射防止層を備える偏光板の一形態を模式的に表す断面図であり、偏光子８の一方の面に、反射防止フィルムが貼り合わせられている。
【００１６】
図１の反射防止フィルム１００は、透明フィルム基材１上に、密着性向上層３を介して反射防止層５が設けられている。反射防止層は、２層以上の薄膜の積層体であり、図１では、４層の薄膜５１，５２，５３，５４の積層体からなる反射防止層５が図示されている。
【００１７】
＜透明フィルム基材＞
透明フィルム基材１は、可撓性の透明フィルム１０を含む。透明フィルム１０の反射防止層５形成面側には、ハードコート層１１が設けられていることが好ましい。
・・・省略・・・
【００３３】
＜反射防止層＞
透明フィルム基材１上に、反射防止層５が形成される。反射防止層５は、２層以上の薄膜からなる。一般に、反射防止層は、入射光と反射光の逆転した位相が互いに打ち消し合うように、薄膜の光学膜厚（屈折率と厚みの積）が調整される。反射防止層を、屈折率の異なる２層以上の薄膜の多層積層体とすることにより、可視光の広帯域の波長範囲において、反射率を小さくできる。
【００３４】
反射防止層５を構成する薄膜の材料としては、金属の酸化物、窒化物、フッ化物等が挙げられる。例えば、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６以下の低屈折率材料として、酸化シリコン、フッ化マグネシウム等が挙げられる。波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９以上の高屈折材料として、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。低屈折率層と高屈折率層に加えて、屈折率１．５０～１．８５程度の中屈折率層として、例えば、酸化チタンや、上記低屈折率材料と高屈折材料の混合物からなる薄膜を形成してもよい。反射防止層を構成する薄膜は、可視光の光吸収が小さいことが好ましく、波長５５０ｎｍにおける消衰係数が０．５以下である材料が好ましく用いられる。
【００３５】
反射防止層５の積層構成としては、透明フィルム１０側から、光学膜厚２４０ｎｍ～２６０ｎｍ程度の高屈折率層と、光学膜厚１２０ｎｍ～１４０ｎｍ程度の低屈折率層との２層構成；光学膜厚１７０ｎｍ～１８０ｎｍ程度の中屈折率層と、光学膜厚６０ｎｍ～７０ｎｍ程度の高屈折率層と、光学膜厚１３５ｎｍ～１４５ｎｍ程度の低屈折率層との３層構成；光学膜厚２０ｎｍ～５５ｎｍ程度の高屈折率層と、光学膜厚１５ｎｍ～７０ｎｍ程度の低屈折率層と、光学膜厚６０ｎｍ～３３０ｎｍ程度の高屈折率層と、光学膜厚１００ｎｍ～１６０ｎｍ程度の低屈折率層との４層構成；光学膜厚１５ｎｍ～３０ｎｍ程度の低屈折率層と、光学膜厚２０ｎｍ～４０ｎｍ程度の高屈折率層と、光学膜厚２０ｎｍ～４０ｎｍ程度の低屈折率層と、光学膜厚２４０ｎｍ～２９０ｎｍ程度の高屈折率層と、光学膜厚１００ｎｍ～２００ｎｍ程度の低屈折率層との５層構成等が挙げられる。反射防止層を構成する薄膜の屈折率や膜厚の範囲は上記例示に限定されない。また、反射防止層５は、６層以上の薄膜の積層体でもよい。
【００３６】
反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層との交互積層体であることが好ましい。空気界面での反射を低減するために、反射防止層の最表面層（透明フィルム基材１と反対側の面）として設けられる薄膜５４は、低屈折率層であることが好ましい。低屈折率層および高屈折率層の材料としては、上記のように酸化物が好ましい。中でも、反射防止層５は、低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）薄膜５２，５４と、高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）薄膜５１，５３との交互積層体であることが好ましい。
・・・省略・・・
【００５２】
（密着性向上層）
ハードコート層１１等の有機材料と、酸化物薄膜との密着性は十分ではない場合が多い。そのため、透明フィルム基材１と反射防止層５との間には、密着性向上層３が設けられることが好ましい。密着性向上層３の材料としては、シリコン、ニッケル、クロム、アルミニウム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウムおよびパラジウム等の金属；これら金属の２種類以上からなる合金；これらの金属の酸化物、窒化物およびフッ化物等が挙げられる。
【００５３】
光透過率が高く、かつ有機層と酸化物層の両方に対する接着力が高いことから、密着性向上層３としては、化学量論組成よりも酸素量の少ない酸化物が特に好ましい。密着性向上層３の酸素量は、化学量論組成の６０～９５％程度が好ましい。例えば、密着性向上層３として酸化シリコン（ＳｉＯｘ）層を形成する場合、ｘは１．２～１．９が好ましい。
【００５４】
密着性向上層３の厚みは、透明フィルム基材１の透明性を損なわない程度あればよく、例えば１～１０ｎｍ以下程度である。密着性向上層３は、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等により形成できる。反射防止層５がスパッタ法により形成される場合、透明フィルム基材１を搬送しながら、密着性向上層３と反射防止層５とを１パスで連続成膜できる。そのため、密着性向上層３は、スパッタ法により成膜されることが好ましい。
【００５５】
化学量論組成よりも酸素量の少ない酸化物薄膜のスパッタ成膜においても、ＰＥＭ方式やインピーダンス方式により酸素導入量を制御してもよい。
【００５６】
（防汚層）
反射防止フィルムは、液晶表示装置等のディスプレイの最表面に配置して用いられるため、外部環境からの汚染（指紋、手垢、埃等）の影響を受けやすい。特に、反射防止層の最表面に設けられるＳｉＯ２等の低屈折率層は濡れ性が良く、指紋や手垢等の汚染物質が付着しやすい。また、酸化物からなる反射防止層は、一般的な透明フィルムに比べて汚染が目立ちやすく、汚染物質が付着しやすいため、表面反射率の変化や、付着物が白く浮き出て視認されることにより、表示が不鮮明になる場合がある。
【００５７】
外部環境からの汚染防止や、付着した汚染物質の除去を容易とするために、反射防止層５の表面には防汚層７が設けられることが好ましい。汚染防止性および汚染物質の除去性を高めるために、防汚層７の純水接触角は、１００°以上が好ましく、１０２°以上がより好ましく、１０５°以上がさらに好ましい。純水接触角は、汚染防止層の表面に直径２ｍｍ以下の水滴を形成してその接触角を測定することにより求められる。
【００５８】
反射防止層５の反射防止特性を維持するために、防汚層７は、反射防止層５の最表面の低屈折率層５４との屈折率差が小さいことが好ましい。防汚層７の屈折率は、１．６以下が好ましく、１．５５以下がより好ましい。防汚層７の材料としては、フッ素基含有のシラン系化合物や、フッ素基含有の有機化合物等が好ましい。【００５９】 防汚層７は、リバースコート法、ダイコート法、グラビアコート法等のウエット法や、ＣＶＤ法等のドライ法等により形成できる。防汚層７の厚みは、通常、１～１００ｎｍ程度であり、好ましくは２～５０ｎｍ、より好ましくは３～３０ｎｍである。」
（３）「【実施例】
【００６７】
以下に、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。【００６８】［防眩性ハードコート層付きフィルムの作製］ 紫外線硬化型のウレタンアクリレート系モノマー（屈折率１．５１）１００重量部、平均粒子径３．５μｍ（粒子分布範囲が３．０～４．１μｍ）のポリスチレンビーズ（屈折率１．５９）１４重量部、ベンゾフェノン系光重合開始剤５重量部、およびトルエン１７１重量部を混合した固形分濃度４０重量％の溶液を、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィフィルム（屈折率１．４９）上に塗布し、１２０℃で５分間乾燥した。その後、紫外線照射により硬化処理を行い、表面に凹凸構造を有する厚み約４μｍの防眩性ハードコート層を形成した。この防眩性ハードコート層の算術平均粗さＲａは０．４３ｎｍであった。
【００６９】
［実施例１］
防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムを、ロールトゥートール方式のスパッタ成膜装置に導入し、フィルムを走行させながら、防眩性ハードコート層形成面にボンバード処理（Ａｒガスによるプラズマ処理）を行った後、密着性向上層として、３．５ｎｍのＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を成膜し、その上に、１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、２８ｎｍのＳｉＯ２層、１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層および８５ｎｍのＳｉＯ２層を順に成膜した。反射防止層上に、防汚層としてフッ素系の樹脂を厚み５ｎｍとなるように形成して、反射防止フィルムを作製した。
【００７０】
（ボンバード処理）
ボンバード処理は、圧力０．５Ｐａ、実効パワー密度０．３４Ｗ・ｍｉｎ／ｍ・ｃｍ²の条件にて実施した。なお、ボンバード処理後の防眩性ハードコート層（密着性向上層および反射防止層を形成していないもの）の表面の算術平均粗さＲａは０．５１ｎｍであり、処理前に比べてＲａが大きくなっていた。実効パワー密度とは、プラズマ出力のパワー密度（Ｗ／ｃｍ²）をロールトゥーロール方式によるフィルム基材の搬送速度（ｍ／ｍｉｎ）で割った値である。プラズマパワーが同一でも搬送速度が大きい場合は、実効的な処理パワーは低下する。
【００７１】
（スパッタ成膜）
密着性向上層としてのＳｉＯｘ層は、圧力０．４Ｐａで、Ｓｉターゲットに３Ｗ／ｃｍ²のＭＦ-ＡＣ電力を４０ｋＨｚ印加して成膜した。ＳｉＯ２層の成膜にはＳｉターゲット、Ｎｂ２Ｏ５層の成膜にはＮｂターゲットを用い、表１に示す電圧、圧力で成膜を行った。酸化物薄膜の成膜においては、アルゴンの導入量および排気量を調整することにより圧力を一定に保ち、プラズマ発光モニタリング（ＰＥＭ）制御により、成膜モードが遷移領域を維持するように導入する酸素量を調整した。」
（４）図１
〔図省略〕
（５）図２
〔図省略〕
２ 引用発明
上記（３）より、引用文献３には、実施例１として、次の「反射防止フィルム」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
「防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムを、ロールトゥートール方式のスパッタ成膜装置に導入し、フィルムを走行させながら、防眩性ハードコート層形成面にボンバード処理（Ａｒガスによるプラズマ処理）を行った後、密着性向上層として、３．５ｎｍのＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を成膜し、その上に、１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、２８ｎｍのＳｉＯ２層、１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層および８５ｎｍのＳｉＯ２層を順に成膜し、反射防止層上に、防汚層としてフッ素系の樹脂を厚み５ｎｍとなるように形成して、作製した反射防止フィルム。」
第５ 対比及び判断
１ 対比
本願発明と引用発明とを対比する。
（１）透明基材
引用発明は、「防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルム」の「防眩性ハードコート層形成面に」「密着性向上層として」「ＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を成膜し、その上に、１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、２８ｎｍのＳｉＯ２層、１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層および８５ｎｍのＳｉＯ２層を順に成膜し、反射防止層上に、防汚層としてフッ素系の樹脂を厚み５ｎｍとなるように形成して、作製した」ものである。
技術常識から、引用発明の「防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルム」が透明であることは明らかである。このことは、引用文献３の【００１７】の記載からも確認できる。
上記技術常識と上記構成からみて、引用発明の「防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルム」は、本願発明の「透明基材」に相当する。
（２）密着層
上記（１）の構成からみて、引用発明の「密着性向上層」は、本願発明の「密着層」に相当する。
（３）第１のＮｂ２Ｏ５層、第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層及び第２のＳｉＯ２層
引用発明において「Ｎｂ２Ｏ５層」及び「ＳｉＯ２層」はそれぞれ２層であるところ、「１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層」及び「２８ｎｍのＳｉＯ２層」は、「防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルム」に近い方であり、「１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層」及び「８５ｎｍのＳｉＯ２層」は、「防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルム」から遠い方にある。
これに対して、本願発明においても「Ｎｂ２Ｏ５層」及び「第１のＳｉＯ２層」はそれぞれ２層であるところ、いずれも「透明基材」に近い方を第１として、「透明基材」から遠い方を第２としている。
そうすると、上記（１）の構成からみて、引用発明の「１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層」、「２８ｎｍのＳｉＯ２層」、「１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層」及び「８５ｎｍのＳｉＯ２層」は、それぞれ、本願発明の「第１のＮｂ２Ｏ５層」、「第１のＳｉＯ２層」、「第２のＮｂ２Ｏ５層」及び「第２のＳｉＯ２層」に相当する。
（４）防汚層
上記（１）の構成からみて、引用発明の「防汚層」は、その文言どおり、本願発明の「防汚層」に相当する。
また、引用発明の「防汚層」は、本願発明の「防汚層」の「厚さが、３ｎｍ～１５ｎｍである」との要件を満たす。
（５）反射防止フィルム
上記（１）～（４）を総合すると、引用発明の「反射防止フィルム」は、その文言どおり、本願発明の「反射防止フィルム」に相当する。
また、上記（１）の構成からみて、引用発明の「反射防止層」は、「１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、２８ｎｍのＳｉＯ２層、１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層および８５ｎｍのＳｉＯ２層を順に成膜し」たものであって、引用発明は、「８５ｎｍのＳｉＯ２層」上に、「防汚層」を形成したものである。そうすると、引用発明の「反射防止フィルム」は、「防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルム」と、該「防眩性ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルム」から順に、「密着性向上層」と、「１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層」と、「２８ｎｍのＳｉＯ２層」と、「１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層」と、「および８５ｎｍのＳｉＯ２層」と、「防汚層」とをこの順に有しているといえる。
そうしてみると、引用発明の「反射防止フィルム」は、本願発明の「反射防止フィルム」の「透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層と、防汚層とをこの順に有し」との要件を満たす。
２ 一致点・相違点
（１）一致点
以上の対比結果を踏まえると、本願発明と引用発明は、以下の点で一致する。
「 透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層と、防汚層とをこの順に有し、
防汚層の厚さが、３ｎｍ～１５ｎｍである、
反射防止フィルム。」
（２）相違点
本願発明と引用発明は、以下の点で相違する。
＜相違点１＞
本願発明は、「第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が２８ｎｍ～３３ｎｍであり、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚が、４３ｎｍ～５７ｎｍであり、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が、２６４ｎｍ～２８８ｎｍであり、第２のＳｉＯ２光学膜厚が、１１３ｎｍ～１２９ｎｍであ」るのに対して、引用発明は、「１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、２８ｎｍのＳｉＯ２層、１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層および８５ｎｍのＳｉＯ２層」であることにとどまり、これらの層の光学膜厚は明らかでない点。
＜相違点２＞
「防汚層」について、本願発明は、「屈折率が、１．００～１．５０であ」るのに対して、引用発明の「防汚層」は、屈折率は明らかでない点。
３ 相違点についての判断
上記相違点について検討する。
（１）相違点１について
ア 引用文献３の【０００６】～【０００７】及び【００５６】の記載によれば、引用発明の「反射防止フィルム」は、画像表示装置の最表面において偏光板に貼り合わせて用いられることが想定されたフィルムと理解される。そして、同文献【００３５】には、反射防止層の積層構成として、「光学膜厚２０ｎｍ～５５ｎｍ程度の高屈折率層と、光学膜厚１５ｎｍ～７０ｎｍ程度の低屈折率層と、光学膜厚６０ｎｍ～３３０ｎｍ程度の高屈折率層と、光学膜厚１００ｎｍ～１６０ｎｍ程度の低屈折率層との４層構成」が具体的に例示されている。さらに、同【００３３】には、反射防止層を「多層積層体とすることにより、可視光の広帯域の波長範囲において、反射率を小さくできる。」との記載がある。
イ 画像表示装置に用いられる反射防止層に求められる周知の課題
画像表示装置に用いられる反射防止層において、反射率を低くするとともに色付きを抑制すること（ニュートラルに近い反射色相とすること）は、例えば、特開２００８－２６２１８７号公報の【０００９】、特開２０１４－１０２３７７号公報の【０００７】、国際公開第２０１４／１１９５０５号の[0007]並びに特許第５２４９０５４号（本件明細書と同様、以下「特許文献２」という。）の【００２３】～【００２４】及び【００４８】等に記載されているように、本件出願時において周知の課題であったと認められる。
そして、引用発明の「反射防止フィルム」が画像表示装置に用いられることが想定されたものであるから（上記ア）、引用発明においても、上記周知の課題は当然に求められている課題といえる。
ウ 相違点１に係る光学膜厚の数値限定と周知の課題（上記イ）との関係
また、引用文献１には、例１（【０１４９】～【０１５３】）として、厚さ１３ｎｍの酸化ニオブ（ニオビア）からなる高屈折率層（第１層）、厚さ３５ｎｍの酸化ケイ素（シリカ）からなる低屈折率層（第２層）、厚さ１１５ｎｍの酸化ニオブ（ニオビア）からなる高屈折率層、厚さ８０ｎｍの酸化ケイ素（シリカ）からなる低屈折率層を順に形成した総計４層積層された密着層（低反射膜）が記載されている。また、引用文献２には、実施例の反射防止層（低反射膜）（【００９０】～【００９３】）として、厚さ１３ｎｍの酸化ニオブ（ニオビア）からなる第１層の高屈折率層、厚さ３５ｎｍの酸化ケイ素（シリカ）からなる第１の低屈折率層、厚さ１１５ｎｍの酸化ニオブ（ニオビア)からなる第２層の高屈折率層、厚さ８０ｎｍの酸化ケイ素（シリカ）からなる低屈折率層を順に形成した、酸化ニオブ（ニオビア）と酸化ケイ素（シリカ）が交互に合計４層積層された低反射膜が記載されている。
ここで、低反射膜に用いられる酸化ニオブは、通常Ｎｂ２Ｏ５が用いられ、屈折率は２．３４程度のものである。また、酸化ケイ素（シリカ）はＳｉＯ２を意味し、屈折率は、１．４６程度のものである。これらの屈折率について、Ｎｂ２Ｏ５については本件明細書の【００２４】、【００３３】及び【００５２】の記載から、ＳｉＯ２については本件明細書の【００２９】、【００３７】及び【００５２】の記載からも確認できる。
そうすると、引用文献１に記載された密着層（低反射膜）及び引用文献２に記載された反射防止層（低反射膜）は、光学膜厚３０．４２ｎｍ（１３×２．３４）の酸化ニオブからなる第１の高屈折率層、光学膜厚５１．１ｎｍ（３５×１．４６）の酸化ケイ素からなる第１の低屈折率層、光学膜厚２６９．１ｎｍ（１１５×２．３４）の酸化ニオブからなる第２の高屈折率層、光学膜厚１１６．８ｎｍ（８０×１．４６）の酸化ケイ素からなる第２の低屈折率層を順に積層したものである。したがって、引用文献１及び２に記載された低反射層（反射防止層）は、相違点１に係る光学膜厚の数値限定を全て満たす「４層構成」の反射防止層であると認められる。
加えて、引用文献１及び２には、相違点１に係る光学膜厚の数値限定に係る構成について、上記イの周知の課題との関係を示唆する記載はないが、本件特許明細書において先行技術文献として提示された特許文献２（【００５２】、【００５５】及び【００６１】～【００６３】（実施例２）に記載された「マルチレイヤ２」に関する記載参照。）によれば、相違点１に係る光学膜厚の数値限定を満たす「４層構成」の反射防止層が、上記周知の課題を解決する手段として有効であることは、本願出願当時の当業者が十分認識していた技術常識であったといえる。
エ 上記ア～ウを勘案すると、反射防止層の反射率を低くするとともに色付きをより抑制するために、引用発明の「反射防止層」（４層構成）の各層の屈折率及び膜厚の調整を、引用文献３の【００３５】に記載された数値範囲内で行うこと、その際に上記課題の解決に有効であることを認識する当業者（上記ウ）が、相違点１に係る光学膜厚の数値範囲の光学膜厚を採用することは、通常の創作能力の発揮であるといえる。
したがって、引用発明並びに引用文献３に記載された事項及び技術常識に基づいて上記相違点１に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
（２）相違点２について
引用文献３の【００５８】には、「反射防止層５の反射防止特性を維持するために、防汚層７は、反射防止層５の最表面の低屈折率層５４との屈折率差が小さいことが好ましい。防汚層７の屈折率は、１．６以下が好ましく、１．５５以下がより好ましい。」と記載されている。そして、引用発明の「反射防止層」の最表面は、「８５ｎｍのＳｉＯ２層」である。ここで、ＳｉＯ２の屈折率が１．４６程度のものであることは、上記（１）で示したとおりである。
そうしてみると、引用文献３の【００５８】の記載を参酌して引用発明の「防汚層」の屈折率を１．４６近傍の値、すなわち、相違点２に係る本願発明の「１．００～１．５０」の範囲に設定することは、当業者にとって適宜選択可能な設計事項にすぎない。
したがって、引用発明及び引用文献３に記載された事項に基づいて上記相違点２に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
（３）相違点１及び２について
各相違点についての判断は上述したとおりであるが、念のため、上記相違点１及び２をまとめて検討する。
引用発明は、「反射防止層」に加えて「密着向上層」及び「防汚層」を有するものであるから、反射防止層の反射率を低くするとともに色付きを抑制するために、反射防止層の光学膜厚や防汚層の屈折率を調整する際に、反射防止層、密着向上層及び防汚層を考慮に入れることは当業者にとって当然のことである。
そして、上記相違点１に係る数値範囲の光学膜厚を用いることが、当業者が想定できる範囲内のものであることは、上記（１）で述べたとおりである。また、上記相違点２に係る防汚層の屈折率の数値範囲が当業者にとって設計事項であることは、上記（２）で述べたとおりである。
さらに、相違点１及び２に係る構成が奏する効果は、それぞれの構成が奏すると予測し得る効果の総和以上のものではない（相乗効果は認められない）。
そうしてみると、引用発明において、反射防止層の光学膜厚を上記相違点１に係る数値範囲とするとともに、防汚層の屈折率を上記相違点２に係る範囲とすることは、当業者にとって何ら格別の困難性はない。
したがって、引用発明並びに引用文献３に記載された事項及び技術常識に基づいて上記相違点１及び２に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
４ 効果についての検討
本件明細書において、【０００５】には課題を解決するための手段が記載されていて、【０００６】には、発明の効果として、「本発明によれば、複数配置されたＮｂ２Ｏ５層、ＳｉＯ２層の光学膜厚を適切に調整することにより、広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供することができる。」と記載されている。また、発明を実施するための形態として、【００２６】には「第１のＮｂ２Ｏ５層」の光学膜厚、【００３０】には「第１のＳｉＯ２層」の光学膜厚、【００３４】には「第２のＮｂ２Ｏ５層」の光学膜厚、【００３８】には「第２のＳｉＯ２」の光学膜厚、【００４２】には「防汚層」屈折率、【００４４】には「防汚層」の厚さ、がそれぞれ記載されていて、いずれの箇所にも「広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供することができると記載されている。
しかしながら、これらの光学膜厚並びに防汚層の屈折率及び厚さの記載は、単に好ましい数値範囲を示しているにすぎず、本願発明に係る各層の光学膜厚並びに防汚層の屈折率及び厚さの数値範囲が、本願発明に係る数値範囲外となる場合に比べて特性が優れていることを具体的に示しているものではなく、また、機序について触れられているものでもない。
さらに、本件明細書の【００５２】の【表１】における比較例４は、本願発明の要件を満たしているのにもかかわらず、実施例及び比較例４の中でＥ値が最も大きな値となっていて色付きが抑制されているのではないことから、本願発明の効果が確認できない。
したがって、本願発明の有利な効果は、本願発明における数値範囲のすべての範囲において確認されるものではないことは明らかであるから、これを参酌することはできない。
５ 審判請求人の主張について
審判請求人は、令和５年５月１５日に提出された審判請求書において、「防汚層、無機層それぞれの屈折率が公知であったとしても、各層同士の関係性を考慮して、各層の光学膜厚を本願発明のように特定することは、容易に想到し得る事項ではありません。防汚層の屈折率の開示がない引用文献１および引用文献２はもとより、無機層（特に、第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層）の光学膜厚が異なる引用文献３においては、防汚層の存在を加味した光学膜厚の調整は行われていません。また、引用文献１～引用文献３は、色付き抑制に関する課題も記載していません。したがって、これら文献を組み合わせて本願発明に想到することは容易ではありません。」と主張している。
しかしながら、上記３及び４で述べたとおりであって、審判請求人の主張は、採用することができない。
第６ むすび
以上のとおり、本願発明は、引用文献３に記載された発明並びに引用文献３に記載された事項及び技術常識に基づいて、本件出願前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。
したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
令和６年４月３０日
審判長 特許庁審判官 里村 利光
特許庁審判官 井口 猶二
特許庁審判官 本田 博幸
（行政事件訴訟法第４６条に基づく教示） この審決に対する訴えは、この審決の謄本の送達があった日から３０日（附加期間がある場合は、その日数を附加します。）以内に、特許庁長官を被告として、提起することができます。
出典：特許庁「審決公報」（令和6年7月26日発行・号数2024-007、公報発行サイト https://www.gazette.jpo.go.jp/scciidl010 ）を加工して作成（加工：TaiLexi AI）
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